Toshiba décuple la densité de la mémoire Flash

Mardi 12 juin 2007 à 14:09 par Matthieu Lamelot, 2007-11-08
Source: Toshiba – Catégorie : Mémoires
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Toshiba a annoncé aujourd’hui avoir mis au point une nouvelle technique de fabrication de mémoire NANDPrincipal type actuel de mémoire flash. La mémoire flash NAND repose sur une technologie mise au point par Toshiba à la fin des années 80. Elle a pris... Flash. Le procédé permet d’empiler les transistorsComposant électronique de la catégorie des semi-conducteurs qui joue un rôle fondamental dans les circuits logiques ou l’amplification et qui est à la... en trois dimensions, et donc d’augmenter la densité de stockage. La technique inventée par Toshiba est aussi très intéressante car elle n’implique pas de lourdes modifications des procédés de fabrication existant.

Les piliers de cellules passent au travers des couches d'interconnexionDifférences entre l'ancien empilement (à droite) et le nouveau (à gauche et en bas)
En effet, Toshiba a pris le problème de l’empilement des cellules mémoire à l’envers de la vision de ses concurrents. Là où Samsung, par exemple, empile des couches de cellules et cherche à percer des trous au travers pour réaliser les interconnexions, Toshiba empile les couches d’interconnexions et fait passer ces cellules au travers.

De plus, dans ce système, les circuits de contrôles ne sont pas dupliqués pour chaque couche mais mutualisés. Grâce à cela, Toshiba obtient une augmentation 10 plus importante de la densité des cellules mémoires que les techniques classiques. Enfin, le procédé est moins coûteux car plus rapide que l’empilement successif de plusieurs couches. Reste à Toshiba à fiabiliser son procédé. Le fondeur ne se risque pour l’instant pas à indiquer la date à laquelle ce procédé pourrait être employé à grande échelle.

Structure d'une cellule de mémoire NAND 3DAugmentation de la densité par mutualisation des circuits de contôle


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