Photolithographie à immersion pour les 22 nm d’IBM
IBM vient d’annoncer qu’il devrait étendre sa technologie de photolithographie à immersion jusqu’à la gravure en 22 nm. La firme pourrait donc une nouvelle fois repousser l’utilisation de la photolithographie à ultraviolet extrême. Ce serait donc une déception pour tous les acteurs qui comptaient sur IBM pour introduire cette technologie avec ses puces gravées en 32 nm, d’ici 2009. Cette décision de Big Blue jette aussi le doute sur la viabilité de cette technologie à l’heure actuelle. Jusqu’à présent, cette technologie a toujours manqué d’une puissance suffisante et d’autres éléments nécessaires à son utilisation. De plus, on estime aujourd’hui que les outils assurant la photolithographie à ultraviolet extrême tournent entre 40 et 60 millions de dollars.
Si IBM utilise encore une photolithographie sèche, il devrait basculer à la photolithographie à immersion d’ici la fin de cette année, lorsqu’il commencera la production de puces en 45 nm. Pour rappel, cette technologie plonge le wafer dans un bain liquide ayant un indice réfractaire supérieur à 1, ce qui donne un « effet de loupe ». Ainsi, lorsque le scanner passe au-dessus du wafer, son image est agrandie. Aujourd’hui, on utilise des ultras violets d’une longueur d’onde de 193 nm, qui sont déjà considérés comme extrêmes. En effet, on appelle ultraviolet extrême les ultraviolets ayant une longueur d’onde comprise entre 200 et 10 nm. Néanmoins, la technologie de photolithographie à ultraviolet extrême repoussée par IBM utilise une longueur d’onde de 157 nm.
- Nouveaux switchs et NAS chez Linksys
- Nouvelle video de GRAW 2
- Les Sony Cyber-shot 2007 arrivent
- Hauppauge annonce la WinTV HVR 4000
- Une oreillette Bluetooth pour l'iPhone d'Apple ?
- Partenaire : Blu-ray vs. HD DVD
- EVERPLAY : l'interopérabilité pour les appareils photos
- Jeu Concours : gagnez un téléviseur LCD 26 pouces
- Test de l'adaptateur CPL HDX101 de Netgear
- AMD 690 : le 965G pour Athlon ?
- Artic Cooling lance le Freezer 64LP
- Sony ouvre son GPS photo aux autres marques
- Deux nouvelles imprimantes chez Canon
- Des enceintes portatives Bluetooth chez Sony
- Le MCP68 de Nvidia en photo
- L'Apple TV est retardé
- Insolite : un iPod Mini à mémoire flash
- La clé USB Security Guardian en test
question naive : comment ils font pour graver des transistors de 22 nm avec des photons de 193 nm ?
sseb22, graver du 22 nm avec du 193 nm est impossible, pour l'instant...
Un laser eximer = 193 nm.
En champ proche cette valeur doit être divisé par 4, soit ~49 nm.
Les CPU en 90 nm et 65 nm sont produit par ce type de laser.
Prochain arrêt = laser au fluor.
Ce type de laser produit 6 longueurs d'onde différentes dont la plus forte est à 157 nm.
Divisé par quatre => ~39 nm.
En utilisant un bain à réfraction élevé on peut atteindre les 32 nm.
Mais il semble que ça soit aussi possible en utilisant un laser en 193 nm avec des optiques spéciaux.
Pour le 22 nm, je sais pas trop comment ils vont s'y prendre...
Pour ceux qui veulent en savoir plus : PDF.
pourquoi (rapidement
) y a-t-il ce facteur 1/4 en champ proche ?
)
(c bien pratique
Hé, attention, on parle ici de la longueur d'onde !
Ca n'a rien à voir avec l'épaisseur du faisceau laser !!
On peut faire un laser super fin : pas plus grand que quelques photons !
Photon qui n'on ni masse, ni taille. Il n'a pas non plus de charge, il n'a qu'un spin de 1.
Donc qu'on prenne un laser d'une longueur d'onde plus grande que la taille qu'on veut graver n'a pas d'importance, enfin pas pour graver plus petit ! La longueur d'onde ne représente que la fréquence de vibration de l'onde lumineuse, si on se place dans le cas du photon onde.
Bref, je ne connais pas les méthode de gravage avec les lasers, et je pense que la longueur d'onde doit avoir une influence, mais pas celle dont tu parlais sseb22.
Plus la longueur d'onde diminue, plus la fréquence augmente, et plus l'énergie augmente aussi. Il doit y avoir un lien à ce niveau peut etre.
Joyeux mélange entre taille des photons et longueur d'onde....
depuis quand les photons ont une taille ?
bon, on va reprendre au debut : quels sont les grandeurs physiques importantes pour la gravure de transistor ?
Pour les CD/DVD et cie, c bien la longueur d'onde qui importe pourtant : plus elle est petite et plus on peut graver finement.
C quoi la difference ici ?
C'est à cause du phénoméne de diffraction. Plus la taille d'un obstacle se rapproche de la longueur d'onde, et plus il se conporte en émetteur, au lieu de produire une ombre 'propre'. (en gros, mes cours d'optique ont prés de 30 ans).
Sinon, un trait de 1mm de long et de 22nm de large a à peu prés les mêmes proportions qu'une route de 1 m de large qui ferait le tour de la terre.
Sinon, un trait de 1mm de long et de 22nm de large a à peu prés les mêmes proportions qu'une route de 1 m de large qui ferait le tour de la terre.
tu t'es trompé d'un facteur 1000