Les équipementiers d’Intel pour le 22 nm

ASML et Nikon seront les deux équipementiers d’Intel pour la gravure de puces en 22 nm.

Un investissement important

Cela veut non seulement dire qu’Intel est en train de finaliser ses choix technologiques et que les premiers prototypes devraient bientôt faire leur apparition, mais aussi que contrairement au 32 nm, où Intel n’avait utilisé que des machines Nikon, la firme revient à une configuration identique à celle utilisée pour le 45 nm. Selon les analystes, une machine ASML tourne dans les 40 millions d’euros, contre 30 millions d’euros pour un modèle Nikon. Elles ne sont pas néanmoins destinées aux mêmes étapes de production et n’ont donc pas les mêmes fonctions.

La lithographie par immersion est loin d’être morte

On s’attend à ce que le fondeur produise environ 5 000 wafers en 22 nm d’ici la fin 2010 et que la production de masse démarre fin 2011, voire 2012. Intel devrait avoir reçu environ 50 % de la commande qu’il a passée à ASML d’ici la fin de l’année prochaine.

Le père des Pentium continuera d’utiliser une lithographie par immersion à 193 nm pour le 22 nm et il a provoqué la surprise lorsqu’il a annoncé qu’il continuerait aussi de l'utiliser pour le 11 nm. Cela signifie que les ultraviolets extrêmes sont donc une nouvelle fois repoussée, probablement pour des raisons économiques (les machines coûtent encore extrêmement chers) et technologiques (la lithographie à ultraviolet extrême a encore de faibles rendements).