Intel fait appel à Nikon pour la gravure en 32nm
Si l’on en croit certaines sources, Intel aurait décidé de se tourner vers Nikon – qui ne fabrique pas que des appareils photo - pour se fournir en appareils de lithographie par immersion, et ce au dépend d’ASML, le constructeur néerlandais de systèmes de lithographie dédiés à l’industrie des microprocesseurs et jusqu’à présent fournisseur d’Intel.
La lithographie par immersion
Intel devrait donc utiliser des scanners basés sur la lithographie par immersion conçus par Nikon (des NSR-610C en 193nm) pour produire ses puces gravées en 32nm. Contrairement à la photolithographie sèche qu’utilise actuellement le fondeur, en particulier pour produire ses processeurs en 45nm, la lithographie par immersion consiste à placer le wafer dans un bain liquide qui a un indice de réfraction supérieur à 1. Le liquide agit alors comme une lentille, focalisant la lumière et accroissant par la même occasion la finesse de gravure.
Le grand perdant de ce choix est bien entendu ASML puisque le fondeur a décidé de se fournir exclusivement chez Nikon. Une stratégie assez risquée si l’on en croit certains analystes…
- Processeur,
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que vient faire nokia la dedans ?
ouais, enfin Nikon est déjà fournisseur en solution de gravure pour Intel.
ouais, enfin Nikon est déjà fournisseur en solution de gravure pour Intel.
Oui, mais là ASML est carrément écarté...
est-ce que quelqu'un aurait la bonté de m'éclairer en quoi certains analystes trouvent cette stratégie risquée, afin d'éclairer ma lanterne!
Merci
que vient faire nokia la dedans ?
tu as mal lu coco
parceque selon certain la lithographie par immerssion sera un échec et ne fonctionnera pas
pourtant il y a là convergence puisque qu'IBM et donc AMD se sont déjà engagé dans la lithographie par immersion pour le 45 nm
donc dire qu'Intel IBM et AMD vont se planter avec l'immerssion....(et encore je crois que les autres fondeurs aussi s'y lancent) je crois bien que le titre d'analystes peut leurs être enlevé à ces dits analystes.
merci cristobool2
parceque selon certain la lithographie par immerssion sera un échec et ne fonctionnera pas pourtant il y a là convergence puisque qu'IBM et donc AMD se sont déjà engagé dans la lithographie par immersion pour le 45 nmdonc dire qu'Intel IBM et AMD vont se planter avec l'immerssion....(et encore je crois que les autres fondeurs aussi s'y lancent) je crois bien que le titre d'analystes peut leurs être enlevé à ces dits analystes.
C'est plutôt de mettre tous ses oeufs dans le même panier (à savoir ne travailler qu'avec un seul fournisseur : Nikon) qui peut s'avérer dangereux.
Oui, mais là ASML est carrément écarté...
Ca reste à voir car la NSR-610C sert plutôt à réaliser les prototypes et non la grande série. De plus il faut passer à la NSR-610C arf pour espérer descendre à 32nm.
Selon mes infos TSMC utilisera la lithographie par immersion pour ses puces en 40nm, mais le "high-k" et les "portes métalliques" ne seront pas de la partie.
Côté lithographie par immersion on a donc AMD, IBM, Samsung, Texas Instrument, Toshiba, TSMC, UMC, et maintenant Intel.
Donc je ne vois pas trop où se situe le problème...
que vient faire nokia la dedans ?
Non pas nokia, nikkon
Pas nikkon, Nikon.
Non pas nokia, nikkon
Non pas nikkon, Nikon
EDIT : grillé par KeyserSoze
Donc encore moins nokia
En même temps, avec l'avance qu'ils ont ...
Puis cela laissera le temps à AMSL de se focaliser sur l'immersion.