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Intel annonce la fin des transistors en silicium ?

Jeudi 8 décembre 2005 à 09:20 par David Civera
Source: Presence PC – Catégorie : Processeurs
14 commentaires

C’est par l’intermédiaire d’un communiqué de presse que le géant Intel annonce l’arrivée d’un nouveau matériau dans la fabrication des transistors qui équiperont ses processeurs, et il nous faut souhaiter la bienvenue au InSb (Indium Antimoine).

InSb : prononcez le InSb

Selon Intel, les prototypes à base de InSb sont plus performants et consomment beaucoup moins que leurs équivalents en silicium. Le géant de Santa Clara y voit donc l’arrivée de composants « consommant considérablement moins d’énergie, produisant moins de chaleur, ce qui pourrait prolonger de façon significative la durée de vie des batteries des outils mobiles et accroître les possibilités pour construire des produits plus petits et plus puissants ».

Pentium 18 aux InSb

Pour information, sachez que des transistors en InSb existent déjà, mais ce serait la première fois qu’ils seraient incorporés dans des microprocesseurs. Ne rêvez pas tout de même trop vite, Intel ne parle pas d’implanter ces transistors avant au moins 5 ans (et donc facilement 7 avec les retards). Bref, vous ne pourrez pas dire que Presence PC ne vous prépare pas aux technologies de demain.


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Commentaires
Anonyme 08/12/2005 09:49
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Non, eh, faut pas déconner, j'en veux dans les PowerBooks !

cyrano 08/12/2005 10:25
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cyrano

Euh, il ont réussi à faire mieux que le silicium pour des transistors CMOS ? O_O

clayton d 08/12/2005 11:04
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clayton d

Et quid du coût de l'alliage ? Parce que le silicium en soi, c'est pas ce qui coûte le plus cher au monde... En tous cas le bond technologique de ces dernières années est impressionant. Bye-bye silicium ! Tout une époque...

Guyzmo 08/12/2005 11:05
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Guyzmo

Je ne comprends pas : c'est pour demain ou dans 7 ans ?

:pt1cable:

foliepure 08/12/2005 11:31
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foliepure

silicium je t'aimeeeeeeeeeeeee

pink floyd pink 08/12/2005 12:06
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pink floyd pink


bonjour ,

je comprends pas le titre . Pourquoi la fin du silicium ?
je crois que l'indium (III) et l 'Antimoine (V) sont utilisés pour doper le silicium . Voulez vous dire que le silicium materiaux de base des transistors sera integralement remplacé par un composé à base d Indium et Antimoine ou est ce que vous voulez dire que les transistors des procs intel utiliseront désormais du silicium dopé à In et Sb ?

Roro2003 08/12/2005 13:00
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Roro2003

Quand on pense que ce n'est que du sable ... [:grut]

Caabale 08/12/2005 13:07
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Caabale

a écrit :

Euh, il ont réussi à faire mieux que le silicium pour des transistors CMOS ? O_O




Bah, oui, ca fait longtemps qu'il y a mieux. L'aseniure de gallium, par exemple (AsGa) est utilise depuis longtemps dans les puces RF, parce que les transistors AsGa ont une frequence de coupure + elevee. Le probleme est que si l'on voulait remplacer toutes les puces du monde par des puces AsGa, il n'y aurait pas assez d'Arsenic sur la Terre...

will36 a écrit :

bonjour ,

je comprends pas le titre . Pourquoi la fin du silicium ?
je crois que l'indium (III) et l 'Antimoine (V) sont utilisés pour doper le silicium . Voulez vous dire que le silicium materiaux de base des transistors sera integralement remplacé par un composé à base d Indium et Antimoine ou est ce que vous voulez dire que les transistors des procs intel utiliseront désormais du silicium dopé à In et Sb ?




Il s'agit compose comme celui que j'ai indique plus haut, le substrat silicium serait effectivement remplace par de l'antimonure d'indium (pas sur du nom :D)

a écrit :

Quand on pense que ce n'est que du sable ... [:grut]




C'est pour ca que c'est pas cher : on en trouve partout. Avec l'InSb, je suis pas sur :/

cyrano 08/12/2005 14:32
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cyrano

Caabale> Erf. J'ai bien précisé transistor _CMOS_ on ne sait faire que du bipolair avec de l'AsGa. Un bipolaire consomme bien plus de courant qu'un CMOS.

J'avais vu une courbe d'un transistor CMOS sur du InSb, c'est à plusieurs dizaine dB de ce qui se faisait sur Silicium (genre 20 contre 60) pour le bloquage de courant.

Le problème concerne l'état surface entre le bulk et l'isolant. Avec du Si², c'est facile, tu fais baigner le tout dans de l'oxygène et tu as une superbe couche de SiO. Dans le cas d'un autre matérieux, tu déposes autre chose par dessus. Or, il y a toujours des imperfections qui te piègent tes charges et te bousille tes rendements.

clayton d 08/12/2005 17:27
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clayton d

C'est bien connu.

franktracks 18/12/2005 11:16
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franktracks

salut,

je suis d'accord avec cabaale, l'AsGa à une fréquence d'utilisation plus rapide, mais le SiGe suffit à cela.
L'AsGa au surtout une mobilité des porteur très bonne à moindre énergie électrique, et qui dit moins de puissance dit moin de plasse ( ex: nokia 3310 en Si , les nouveaux téléphone sont en AsGa)

l'AsGa est mieu que le InP (arséniure d'indium) car son gap est plus petit.
de plus le GaAs est a gap direct, ce qui lui permet d'émettre ds le visible, sans AsGa pas de fibre optique.

pour répondre à pink floyd, le Si est le dopant du AsGa

pour ce qui s'agit de faire que du bipolaire en AsGa, c'est totalement faut, car l'hétérojonction AsGa créer un puit quentique qui permet d'augmenté le Gain intrinséque du cmos

cyrano 18/12/2005 18:45
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cyrano

Y'a pas de techno CMOS sur AsGa.

Il n'est pas possible d'être assez propre à l'interface AsGa/Isolant pour que cela marche correctement.

Il me semble que les porteurs son encore plus rapide dans l'InP que avec l'AsGa.

franktracks 19/12/2005 17:05
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franktracks

oui, c vrai INP plus rapide que l'AsGa
mais attention: µ(InP) = 2.10E7 pour un énergie elctrique 10E4 V/cm
or µ(AsGa)=1,9.10E7 pour une énergie 2.10E3 v/cm.
l'AsGa est donc plus intéressant pour le compromis précédent.

et pui l'hétérojonction pseudomorphique AlGaAs/InGaAs/GaAs est utilisé pour les HEMT (famille du MOS) car nature à faible cout et peut dispersive.

(voir les étude faite en terme d'alliage III-V submicronique pour les technologie à effet de champs)

franktracks 19/12/2005 17:14
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franktracks

pour cyriano:

pour ce qui est des charges piégées dont tu parlé ( ds oxyde). il est vrai que c un vrai problème pour les CMOS, car movaise compléméntarité du au passage en déplétion du nmon et en accumulation du pmos.
mais la technique cvd à souvent posé ce problème ( qui ne pose pas de problème pour les bjt en passant).
( mais d'après se que j'ai entendu, je croi que cela peut être compensé en utilisant le body effect)
il est évident, pour une techno CMOS-bulk, ceci ne fonctionn pas en CMOS-SOI

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