Nanolithographie plasmonique ou des CPU 10 x plus petits

Des chercheurs de l’Université de Berkely en Californie ont publié les résultats de recherches portant sur une nouvelle manière de fabriquer des processeurs en faisant appel à de la lithographie plasmonique.

Lithographie plasmonique

Appartenant à la physique quantique, cette technique utilise les électrons libres présents sur la surface d’un métal et qui ont la particularité d’osciller lorsqu’ils sont exposés à la lumière. Ces oscillations génèrent un rayon dont la longueur d’onde est bien plus courte que celle de la lumière, permettant au final d’avoir une finesse de gravure plus importante.

Beaucoup de chemin à parcourir

À l’heure actuelle, les chercheurs n’ont pu graver que des structures de 80 nm de largeur à une vitesse de 12 mètres par seconde. Néanmoins, ils affirment que cette technologie permet de fabriquer des processeurs plus rapides et dix fois plus petits. Il serait aussi possible, selon eux, d’utiliser cette technologie sur un disque qui aurait une densité entre 10 et 100 fois supérieure. La lentille métallique qui produit cette lumière n’a néanmoins qu’une tête de 100 nm, pour l’instant, mais les scientifiques affirment qu’il est possible d’obtenir une tête de 10 nm voire 5 nm.

Qui a parlé de réduction des coûts ?

Bref, si ces résultats sont fascinants, il semblerait que l’on soit encore loin de pouvoir graver des processeurs 10 fois plus petits que ceux que l’on connaît aujourd’hui. Néanmoins, nul doute que ces recherches devraient attirer les regards des fondeurs alors que le rayon ultraviolet qui vient frapper la lentille métallique n’a pas besoin d’avoir une longueur d’onde courte (contrairement aux rayons utilisés aujourd’hui), ce qui signifie qu’ils pourraient se débarrasser des machines extrêmement couteuses servant à produire ces rayons.

Les résultats devraient paraître dans la revue Nature Nanotechnology du mois de décembre.